中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝
做為國內最大也是最先進的半導體制造公司，中芯國際在先進工藝上的進展引人關注，其中7nm及以下節(jié)點非常重要，這還牽涉到EUV光刻機。
日前有股民在互動平臺上詢問，稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝，要求中芯國際澄清。
對此，中芯國際表示，公司不針對傳言進行評論。
從中芯國際官網(wǎng)的介紹來看，該公司提到的最先進工藝還是14nm，接下來的是N+1、N+2工藝，但沒有指明具體的工藝節(jié)點。
中芯國際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示，經(jīng)過三年的積累，F(xiàn)inFET工藝已經(jīng)取得了不錯的成績，N+1已經(jīng)進入了風險量產(chǎn)，但是在外部因素的影響下，去年四季度起FinFET的產(chǎn)能利用率不足，爬坡需要時間，營收奉獻尚未達到預期水準，折舊又對公司整體的盈利造成了負擔。
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原文標題：不用EUV光刻機就搞定類7nm工藝？中芯國際回應
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