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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：324個 瀏覽：30943次 帖子：4個

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      2024-11-11 標簽：集成電路光刻技術光刻膠 1894 0

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      2024-10-31 標簽：芯片半導體光刻膠 1570 0

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      2025-06-05 標簽：干涉儀光刻膠 201 0

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