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標簽 > 白光干涉儀
干涉儀是一種對光在兩個不同表面反射后形成的干涉條紋進行分析的儀器。其基本原理就是通過不同光學元件形成參考光路和檢測光路。
干涉儀是一種對光在兩個不同表面反射后形成的干涉條紋進行分析的儀器。其基本原理就是通過不同光學元件形成參考光路和檢測光路。
光的干涉是指從目標對象表面到某點的光距(光路)產(chǎn)生偏差時,所發(fā)生的現(xiàn)象。利用這種現(xiàn)象測量目標對象表面凹凸的就是光學干涉儀。右圖是干涉應變計的結構圖。從光源(半導體激光等)發(fā)出的光有一些透過分光鏡到達參考面上,其余被反射到樣本表面。透過的光經(jīng)參考面反射通過光接收元件即CCD元件成像。其余被反射的光經(jīng)目標對象表面反射透過分光鏡,同樣通過光接收元件即CCD元件成像。
提升人形機器人運動能力,需要把控運動關節(jié)哪些關鍵參數(shù)?
電機、減速器、絲杠則是人形機器人關鍵運動的關鍵組成部件。因此在生產(chǎn)制造中,如何精確控制這三大零部件的關鍵尺寸與參數(shù),成為首要課題。
三維表面輪廓儀的維護保養(yǎng)是確保其長期穩(wěn)定運行的關鍵
三維表面輪廓儀是一種高精度測量設備,用于非接觸式或接觸式測量物體表面的三維形貌、粗糙度、臺階高度、紋理特征等參數(shù)。其主要基于光學原理進行測量。它利用激光...
優(yōu)可測白光干涉儀和薄膜厚度測量儀:如何把控ITO薄膜的“黃金參數(shù)”
ITO薄膜的表面粗糙度與厚度影響著其產(chǎn)品性能與成本控制。優(yōu)可測亞納米級檢測ITO薄膜黃金參數(shù),幫助廠家優(yōu)化產(chǎn)品性能,實現(xiàn)降本增效。
微透鏡陣列精準全檢,優(yōu)可測3D自動量測方案提效70%
微透鏡陣列可實現(xiàn)許多傳統(tǒng)光學元器件難以實現(xiàn)的特殊功能,應用廣泛。某福州工廠需全檢晶圓MLA產(chǎn)品,引入優(yōu)可測NX230系列晶圓3D自動量測設備,實現(xiàn)高精度...
原理相關1、白光干涉儀的基本原理是什么:白光干涉儀的基本原理是利用光學干涉原理。光源發(fā)出的光經(jīng)過擴束準直后經(jīng)分光棱鏡分成兩束,一束光經(jīng)被測表面反射回來,...
3D白光干涉輪廓儀 WLI-1000提供了強?、多功能的?接觸式光學表?分析。它可以簡單和快速地測量各種表?類型,包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯式的表?。
2024-08-10 標簽:測量系統(tǒng)圖像輪廓三維掃描儀 1022 0
金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體及微納制造領域,光刻膠剝離工藝對金屬結構的保護至關重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質(zhì)量...
避免寄生柵極效應和斜紋 Mura 的光刻膠剝離裝置及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體和顯示面板制造過程中,光刻膠剝離環(huán)節(jié)若處理不當,易引發(fā)寄生柵極效應和斜紋 Mura 問題,嚴重影響產(chǎn)品性能和顯示質(zhì)量。同時,光刻圖形的精確...
解鎖微觀測量新境界:光學3D輪廓儀與共聚焦顯微成像的結合應用
在當今科技飛速發(fā)展的時代,眾多行業(yè)正朝著精細化、微型化的方向大步邁進。當芯片上的晶體管小到肉眼不可見,當手機攝像頭鏡片需要納米級平整度,傳統(tǒng)測量工具還能...
引言 在半導體制造和微納加工領域,光刻膠剝離是光刻工藝的重要環(huán)節(jié)。水平式光刻膠剝離工藝憑借其獨特優(yōu)勢在工業(yè)生產(chǎn)中占據(jù)一席之地,而準確測量光刻圖形對保障工...
引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)...
納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對比度等優(yōu)勢,在虛擬現(xiàn)實、增強現(xiàn)實等領域應用廣泛。納米壓印技術為其制備提供了新方向,而精確測量光刻圖形是...
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